ニコンインステック、非接触で0.1nmクラスの表面性状評価する光干渉顕微鏡システム

　ニコンインステックは、独自の高度干渉波形データ取得技術および超精密位相解析技術により、1pmの高さ分解能を実現した光干渉顕微鏡システム「BW-M7000」の販売を開始した。サブnmからmmまでの高さ範囲の表面トポグラフィを高速かつ高精度で測定できるという。

　ニコン独自のFVWLI（Focus Variation with White Light Interferometry）法を用いて、2.5倍（視野4.4x4.4mm）から100倍（視野111x111um）までのすべての倍率で、三次元算術平均高さ（Sa）が0.1nmクラスの表面性状評価を実現している。超平滑面から粗面まで、単一のモードで光学フィルタなどを交換することなく測定できる。このほか、膜厚測定ではスペクトル干渉法を用いて、1nmから40umの透明膜の膜厚を0.1秒以下の高速測定が可能。

　最大ストローク300x300mmの電動XYステージと最大ストローク200mmの電動Zフォーカシングステージを搭載し、半導体・LED・薄膜材料・高分子材料・精密機械加工部品など幅広いサンプルの測定に対応している。ドリル先端の表面形状も、冶具で直立固定した状態で測定できる。

SiCウェハ（Sa0.1nm）の測定例