日本アイ・ティ・エフ、アークイオンプレーティング装置シリーズに小規模生産・研究開発用途を追加

　日本アイ・ティ・エフ（ http://www.nippon-itf.co.jp/ ）は、各コンポ―ネントを高性能化したことにより低コスト短サイクルでの成膜処理を可能としたアークイオンプレーティング装置シリーズに、小規模生産・研究開発用途の「iDS-mini」を追加した。

　同装置は、蒸発源を少なくし小型化したことで、装置のコストを抑えることに成功した。また、小型化により排気速度が向上、さらにアーク電流を従来より高めることにより蒸発速度を速めることができ、通常サイズの装置を超えた短サイクルを実現した。

　装置導入時に、生産規模に合わせて蒸発源の搭載数を最小限にすることができるため、初期投資を抑えることができる。また、生産規模の変化等に応じて蒸発源を増設することも可能だという。

　成膜可能な膜種は、単層膜でTiN、TiCN、TiAlN、TiSiN、その他Ti系被膜、積層膜でCrN、AlCrN、その他Cr系被膜など。切削工具や金型、自動車部品、機械部品、装飾用途などに提案を行っていく。
iDS-mini