東京電子、HiPIMS電源が第21回プラズマ材料科学賞（技術部門賞）を受賞

　東京電子（https://toel.co.jp/）は、岡山理科大学 技術科学研究所と共同で、「高機能膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源の開発」の業績に対し、日本学術振興会 プラズマ材料科学第153委員会が選定を行う「第21回プラズマ材料科学賞」の技術部門賞を受賞した。

　HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering、大電力パルスマグネトロンスパッタ)は低いDuty比で高い電力を瞬間的にカソードに投入し高密度のプラズマを形成する手法であり、高性能な機能性薄膜を作製するには極めて有効な手段で、自動車部品用、機械工具用のハードコーティング等では製品化が進んでいる。

　またセンサーデバイス用の反射防止膜、電子デバイス用のバリア膜等、多様なアプリケーションでの応用が期待されている。東京電子ではHF（High Frequency）パルスの採用により成膜中の膜品質を低下させるアーク異常放電、生産性を損なう低い成膜レートなどの実際に起こる問題を克服し、性能を向上させ高機能成膜を実現させるアーク抑制型HiPIMS電源を開発、今回その業績が評価されたもの。