ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎

　本書では、まずドライプロセスの歴史的発展過程にふれ、次にこれを支える基盤技術である「真空」「プラズマ」を解説。さらに、代表的なドライプロセスを取り上げ、どのような原理・原則に基づいているか、薄膜・表面評価分析技術について解説する。

　具体的には、1章では、ドライプロセスとプラズマに関する概要と歴史的発展過程を記述している。これからドライプロセスを学ぼうと考えている人達だけでなく、ドライプロセスの教育に関与している人にも、この章の内容は有意義である。2章では、ドライプロセスを支える重要な基盤技術・基礎学問である真空とプラズマの基礎について、章を割いて解説している。3章では、代表的なドライプロセスについて実際に取り上げ、それぞれのプロセスがどのような原理・原則に基づいているのかを解説している。ドライプロセスが産業分野でどのような役割を果たしているのかについても、ある程度分かるようになっている。

　4章では、薄膜および表面の評価分析技術について説明を加えている。これらの分析評価技術は、ドライプロセスだけに限定して使われるわけではないが、ドライプロセスの研究開発にとって必要不可欠な分析評価手法である。

著者一覧

明石 和夫（東京大学 名誉教授）
井上 泰志（千葉工業大学）
大工原 茂樹（日本真空学会）
柏木 邦宏（東洋大学 名誉教授）
草野 英二（金沢工業大学）
堀 勝（名古屋大学）
鷹野 一朗（工学院大学）
伊藤 滋（東京理科大学）
馬場 恒明（長崎工業技術センター）
浦尾 亮一（茨城大学 名誉教授）
杉村 博之（京都大学）
馬場 茂（成蹊大学）
渡部 修一（日本工業大学）
穂積 篤（産業技術総合研究所）

A5判、198頁、定価3080円（税込）、コロナ社刊。