パーク・システムズ・ジャパン、300mm半導体ウェハー用ナノスケール赤外分光システムを開発

　パーク・システムズ・ジャパンは、300mm半導体ウェハー対応のナノスケール赤外分光システム「Park NX-IR R300」を開発した。

　同品は、化学特性情報だけでなく、半導体研究の機械特性や形状測定、故障解析、欠陥評価などをこれまでにない高ナノ分解能で提供する。

　主要機能は、①300mmまでの半導体ウェハーの化学・材料特性評価、②ナノスケールの赤外（IR）分光と原子間力顕微鏡（AFM）を一体化した装置、③10nmの空間分解能で化学物質を同定、④ノンコンタクト方式によるダメージのない分光スキャンが可能、⑤オングストローム以下の高さ精度の3Dトポグラフィーとナノメートルの横分解能での材料イメージング、など。