SIIナノテク、めっき・蒸着等の極微小部の膜厚を測定する蛍光X線膜厚計

　エスアイアイ・ナノテクノロジー（ http://www.siint.com/ ）は、めっき・蒸着等の極微小部のナノオーダー膜厚を高精度に測定する蛍光X線膜厚計「SFT9500Xシリーズ」の販売を開始した。

　新たなX線集光光学系（キャピラリ）とX線源の組み合わせにより、照射径30μmφでの高輝度X線ビーム照射を可能とした。これにより、測定精度を損ねることなく、数十μmレベルの微小領域の膜厚測定ができる。あわせて、数十nmオーダーのAu/Pd/Ni/Cu多層膜も各層の厚みを同時に高精度測定できる。また、サンプルに微小ビームをXYスキャン（走査）するマッピング測定により、試料のめっき厚み分布や特定元素の含有分布を二次元のマッピング画像データとして出力し、容易かつ迅速に観察できる。