表面技術協会（ http://www.sfj.or.jp ）は8月22～23日、千葉・習志野市の千葉工業大学 津田沼キャンバスで「ドライプロセスの基礎と薄膜作製」を開催する。同協会の会員は、講義・実習参加コースで30000円、講義のみで12000円。一般は同42000円、同24000円。希望者は 同協会ホームページから申込書をダウンロードのうえ、事務局宛に電子メール、Fax、郵送のいずれかの方法で申込む。
スケジュール
講義：8月22日（木） 10：30～17：00
10：40～12：00 真空とプラズマ 井上泰志氏（千葉工業大学工学部）
13：00～13：45 真空蒸着とイオンプレーティング 柏木邦宏氏（東洋大学名誉教授）
14：00～14：45 スパッタリング 中野武雄氏（成蹊大学理工学部）
15：00～15：45 CVDの基礎 伊藤 滋氏（東京理科大学理工学部）
16：00～16：45 薄膜の機械的評価 馬場 茂氏（成蹊大学理工学部）
17：30～18：30 技術交流会
実習：8月23日（金） 10：00～17：00
10：10～12：00 当日の予定／実習方法などについて 寺島慶一氏、井上泰志氏、坂本幸弘氏
13：00～17：00 午前の見学後、アンケートを実施→実習テーマを二つ選択、午後の実習に入る。
実習A プラズマCVDによるDLC薄膜作製
実習B スパッタリングによる化合物薄膜作製
実習C プラズマによる表面硬化/プラズマCVDによるダイヤモンド薄膜作製
機械・要素技術
ベアリング＆モーション
