都産技研と表面技術協会、11月に新しい薄膜形成技術に関するシンポジウムを開催

　東京都立産業技術研究センターと表面技術協会は11月7日、東京・青海の同センター内で新しい薄膜形成技術に関するシンポジウムを開催する。このシンポジウムでは、「ドライプロセスの新潮流」として、“高イオン化”スパッタリング技術（通称：HiPIMS：High Power Impulse Magnetron Sputtering ）をテーマに取り上げ、この技術の特徴とその応用について解説する。

　主に日本国内外の研究者による先行的取り組み事例および成膜装置メーカーの技術開発動向を紹介する。また本シンポジウムを通じて、国内表面処理技術分野における新規イノベーション創出のためのネットワーク構築の場を提供することを大きな開催趣旨としている。概要は以下のとおり。

日時

平成24年11月7日（水曜日）9時30分～19時30分 （10時間 ※休憩・ポスター交流会含む）

会場

東京都立産業技術研究センター本部 東京イノベーションハブ（東京都江東区青海2-4-10）

プログラム

9時30分～9時40分　　開会の辞

9時40分～10時00分　　地方独立行政法人東京都立産業技術研究センターの紹介

10時00分～10時50分　　基調講演1「大電力パルススパッタとプラズマ電位制御による薄膜構造の変化」
中野 武雄 氏（成蹊大学理工学部）

10時50分～11時40分　　基調講演2「Highly Ionized Carbon Fluxes Obtained using HiPIMS for Deposition of DLC」
Prof. Dr. Ulf Helmersson 氏（Linkӧping University）

11時40分～12時10分　　 招待講演1「高出力パルスマグネトロンスパッタ法で発生したイオンと中性種の組成の時間変化とエネルギー分析」
塚本 恵三 氏（アヤボ）

12時10分～12時30分　　「HiPIMS2012 国際会議参加報告」
清水 徹英 氏（首都大学東京システムデザイン学部）

12時30分～13時30分 昼食・休憩

13時30分～14時20分　　基調講演3「HiPIMS-innovation in Process Engineering and Coating Development」
Dr. Jones Alami 氏（INI Coatings Ltd.）

14時20分～14時50分　　特別講演1「HPPMS,UBMS,AIPプロセスにおける皮膜特性および相対イオン化率の比較」
廣田 悟史 氏（神戸製鋼所）

14時50分～15時20分　　特別講演2「An Innovative Approach to New Hybrid Coatings based on HiPIMS Technology」
Dr. Jörg Vetter 氏（Sulzer Metaplas GmbH）

15時20分～15時40分 休憩

15時40分～16時10分　　招待講演2「Latest Developments using HiPIMS and Superimposed Pulse Power Technology( SIPP )」
Dr. Günter Mark 氏（MELEC GmbH）

16時10分～16時40分 特別講演3「Plasma Diagnostics in High Power Impulse Magnetron Sputtering Discharges」
Dr. Yolanda Aranda Gonzalvo 氏（Hiden Analytical Ltd.）

16時40分～17時10分　　特別講演4「大電力パルススパッタによる真性カーボン膜（ICF）製造技術と応用-DLCから進化した高機能膜ICF-」
平塚 傑工 氏（ナノテック）

17時10分～17時40分
特別講演5　　「Characterization of Hard Coatings Deposited by HiPIMS System and Their Cutting Performance」
Dr. Saleh Abusuilik 氏（日立ツール）

18時00分～19時30分 ポスター交流会 講演者とポスターを交えた懇談会

定員

100名

参加費

無料

資料代

一冊 5,000円
※表面改質・硬化部会、材料機能ドライプロセス部会、電鋳・金型の表面処理研究部会 会員：1社2冊まで無料

申込み・問合せ

コチラから申込書をダウンロードし、メールおよびFAXで送付
問い合わせ先
事業化支援本部 技術経営支援室産業交流係
TEL:03-5530-2134
申し込み締切日は平成24年10月31日（水曜日）